我国前道光刻装备自主化阶段性成果，上海微电子新一代光刻机模型亮相

📋总体概括

在第九届进博会上，上海微电子装备（SMEE）展示新一代前道干式光刻机通用技术平台模型，体现我国前道光刻装备自主化阶段性成果。该平台适配I-line与KrF两类主流路线，物镜、双工件台、物料传输与对准传感系统均实现全链条自主可控。官方信息称其成像性能已与国际同类领先产品相当，设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期运行，累计支持流片超千万片，设备有效运行率超92%。SMEE成立于2002年，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商，是国产光刻自主供给体系的核心支撑。