新凯来设备全面量产！光掩模加晶圆检测双双击穿：量检测10%空白要被填了

📋总体概括

国产半导体设备商新凯来在2026湾芯展确认设备全面量产，已进入国内多家晶圆厂，覆盖先进逻辑与存储领域。其产品线从刻蚀、扩散、薄膜沉积等工艺装备延伸至量检测，并首次公开两款新设备：PMI六盘山图形掩模缺陷检测仪和mEBI井冈山多电子束晶圆缺陷检测仪，后者集成AI缺陷分类。据伯恩斯坦报告，2025年本土厂商在国内晶圆制造设备份额达21%，刻蚀31%、薄膜沉积27%，但量检测仅约10%，新凯来此举正瞄准这一最大空白。