日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统，号称回收率达 50%

📋总体概括

日本光刻设备厂商Gigaphoton推出面向ArF准分子激光器的氖气回收系统hTGM，回收率达50%，且后续有望通过调整配置进一步提升效率。氖气是DUV深紫外光刻的关键耗材，2022年前乌克兰供应全球约50%的半导体用氖气，俄乌冲突后出口中断曾引发供应链危机，全球约70%的氖气产量用于芯片制造。此后中国、韩国加大氖气生产，多家芯片厂也引入回收系统，hTGM的推出正是这一供应链重构背景下的产物。