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晟鼎等离子干法还原,高效去除基板表面的烧结氧化层,保障 IGBT/SiC 模块绝缘与焊接可靠性!
📋总体概括
晟鼎推出等离子干法还原工艺,用于去除功率半导体基板表面的烧结氧化层。该方案面向IGBT与SiC功率模块制造环节,氧化层残留会影响基板与焊料、键合层之间的结合质量,进而威胁模块的绝缘性能与焊接可靠性。等离子干法处理相比化学清洗可减少试剂残留与污染风险,属于封装前处理环节的工艺补强,契合SiC等高功率器件对界面质量日益严苛的要求。
⚡关键信息
- ▸晟鼎等离子干法还原工艺目标为去除基板表面烧结氧化层
- ▸应用对象为IGBT与SiC功率模块的封装制造环节
- ▸氧化层残留会影响绝缘性能与焊接可靠性,属封装前关键处理步骤
- ▸干法工艺路径可规避化学清洗的残留与污染问题
🔥犀利点评
这本质是封装产业链上一门不起眼但卡脖子的生意:SiC模块越做越薄、界面余量越收越窄,表面那层氧化膜处理不好,整个模块可靠性全盘崩塌。干法等离子替代湿法清洗方向没错,但晟鼎能否立足,关键不在宣传图而在清洗均匀性与量产节拍的实测数据。
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