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半导体二手设备SUSS ACS200G3 涂胶显影机出售
📋总体概括
适配 2‑8 英寸晶圆、方形衬底,旋转 + 喷雾涂布,GYRSET 闭盖厚胶工艺,0.1‑500μm 光刻胶通吃。 一体化完成涂胶‑烘烤‑显影,puddle / 喷淋双显影模式,支持溶剂显影,多模块可扩展,可联动 SUSS 对准曝光机全自动化生产。 多用于 MEMS 传感器、微流控、LED、晶圆级封装制程,研发量产两用。 现货 / 可寻源,欢迎交流工艺配置与设备状态。
⚡关键信息
- ▸适配 2‑8 英寸晶圆、方形衬底,旋转 + 喷雾涂布,GYRSET 闭盖厚胶工艺,0.1‑500μm 光刻胶通吃。
- ▸一体化完成涂胶‑烘烤‑显影,puddle / 喷淋双显影模式,支持溶剂显影,多模块可扩展,可联动 SUSS 对准曝光机全
- ▸多用于 MEMS 传感器、微流控、LED、晶圆级封装制程,研发量产两用。
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