对华禁售EUV光刻机 美欧成最大输家！专家：别低估中国科技能力和努力

📋总体概括

阿斯麦核心供应商蔡司半导体业务负责人罗蒙德近日称中国在半导体设备领域落后约15年，研发EUV光刻机仍需15年左右，但他也承认外界难以准确量化中国真实研发进展。瑞银分析指出，阿斯麦从2004年起步到EUV大规模商业化也耗时约15年，同时认为中国DUV追赶速度快于预期。目前美国已全面禁止阿斯麦对华出口EUV，并收紧浸润式DUV限制。巴黎第一大学教授孔博则撰文指出，美欧对华光刻机禁售最终将令自身成为最大输家，无法实现长期遏制中国半导体产业的预期目的。