供应链🔥9.0
重大突破！我国新一代光刻机模型亮相 性能直追国际标杆：全国产半导体可期
📋总体概括
进博会上，上海微电子装备集团（SMEE）展示新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800与SSB800剖视模型，覆盖I-line与KrF两大技术路线。该平台为全自主标准化前道光刻架构，物镜、双工件台、对准传感等关键系统全链条自主可控，零部件国产化率突破90%，已技术定型并进入规模化量产。SMEE称SSC800整体性能跻身全球行业第一梯队，成像性能与国际同类领先产品相当，国产前道干式光刻机填补国内长期空白。
⚡关键信息
- ▸SMEE在进博会中国馆展出SSC800、SSB800前道干式扫描投影光刻机剖视模型，透明设计直观呈现内部光学与机电链路。
- ▸平台适配I-line、KrF两类主流路线，高精度物镜、双工件台、物料传输与对准传感系统均实现全链条自主可控。
- ▸两款机型关键零部件国产化率突破90%，已完成技术定型并进入规模化量产阶段。
- ▸SSC800基于自研双工件台并搭载国产大NA物镜，整体性能跻身全球行业第一梯队，成像性能对标国际领先产品。
- ▸套刻精度、生产效率等核心参数仍在紧密追赶国际标杆。
🔥犀利点评
先把情绪降温：亮相的是干式KrF/I-line机型，与EUV乃至主流浸没式ArF还有代差，说「直追国际标杆」要打个问号。但进步是实打实的——90%国产化率加双工件台量产，意味着最难啃的工程化环节被打通了。从「造得出」到「用得住」再到迭代追赶，国产光刻机走的是笨功夫，这条路没有捷径，但方向对了就值得肯定。
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