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朗道燧岩国产 EUV 光源系统样机 2026 工博会首秀:国产化率达 90%,距量产仍需 3~5 年

IT之家·2026/10/14 07:16:45🔗 原文

📋总体概括

朗道燧岩在2026年第26届中国国际工业博览会上首次公开展示国产极紫外(EUV)光源系统样机,为目前公开展示中国产进度最靠前的EUV光源样机。该系统国产化率达90%,核心零部件多为自主研发,技术路线与国际领先厂商一致,可用于芯片曝光测试。EUV光源是7nm及以下先进制程芯片制造的核心部件,长期受海外禁运限制。官网显示其高功率FlintMicro-LPP系列已完成原理论证,低功率FlintNano-LPP系列处于产品化阶段,但距离量产仍需3~5年。

⚡关键信息

  • ▸朗道燧岩在2026上海工博会首展国产EUV光源系统样机,是公开展示中国产进度最靠前的样机
  • ▸该样机国产化率达90%,绝大多数核心零部件自主研发,技术路线与国际领先厂商一致
  • ▸EUV光源被称作高端光刻机的「心脏」,是7nm及以下先进制程三大核心零部件之一,长期受海外垄断禁运
  • ▸官网显示高功率FlintMicro-LPP系列完成原理论证,低功率FlintNano-LPP系列已进入产品化阶段
  • ▸官方明确距量产仍需3~5年,当前可用于芯片曝光测试环节

🔥犀利点评

90%国产化率的EUV光源样机确实值得肯定,但要泼盆冷水:EUV光源从样机到量产是地狱级难度,ASML背后的Cymer打磨了二十多年。3~5年量产的说法过于乐观,功率、稳定性、寿命三个坎,每一道都可能耗掉五年。而且光源只是光刻机三大核心之一,就算光源通了,镜头和双工件台同样是天堑。展台上的样机和产线上的设备之间,隔着的是十年时间和巨额现金流,别被首秀的热闹冲昏头脑。

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