韬定律提升能力！余承东：EUV光刻机国内目前正在研发 手机除CPU外根本不需要先进工艺

📋总体概括

余承东近日与国际媒体交流时确认，国内科研团队正在全力研发EUV光刻设备，但现阶段国产芯片量产仍依托已完全国产化的DUV深紫外光刻路径。他强调智能手机除主处理器外大量部件并不需要先进制程，华为通过逻辑折叠、架构创新和软硬件协同等系统工程方法弥补制程受限，以不依赖制程参数堆叠的方式提升芯片综合算力。这一表态既回应了外界对国产光刻机进展的关切，也明确了华为在受限背景下转向系统能力竞争的技术路线。