没有EUV，3nm还能这么造？

📋 总体概括

中科院公布新型GAA晶体管架构，在DUV光刻机上实现开关比超50万倍，理论上解锁3nm等效性能。本文拆解其技术含金量、FEOL之外的中后道瓶颈，以及中国芯片在EUV受限下的DUV绕行路线图。